Центр коллективного пользования уникальным научным оборудованием

«Белорусский межвузовский центр обслуживания научных исследований»





Поиск:
Оборудование
РЭМ LEO - 1455 VP РАСТРОВЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ МИКРОСКОП LEO - 1455 VP С ПРИСТАВКАМИ :
энергодисперсионный безазотный спектрометр Aztec Energy Advanced X-Max 80 ;
система дифракции отраженных электронов HKL EBSD Premium System Channel 5

Производитель: микроскопа - Сarl Zeiss (Германия), спектрометра и системы дифракции отраженных электронов - Oxford Instruments (Англия).
Назначение: исследование морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов; определение качественного и количественного элементного состава материалов как по всей поверхности, так и в точке или вдоль выделенной линии, построение карт элементного состава; получение изображения поверхности материала в фазовом контрасте; определение фазового состава, ориентации кристаллитов, состояния границ зерен.
Технические характеристики:
увеличение от 32 до 300 000 крат;
разрешение в высоковакуумном режиме для проводящих образцов 3,5 нм, в низковакуумном режиме для непроводящих образцов – 5 нм;
максимальный размер образца 100 мм;
диапазон элементов от Bе до Pu;
пределы измеряемых концентраций 0,1-100%;
время получения одной картины Кикучи не более 1 с;
анализируемый диапазон симметрии кристаллов - все группы Лауэ.
СЗМ SOLVER P47 PRO СКАНИРУЮЩИЙ ЗОНДОВЫЙ МИКРОСКОП SOLVER P47 PRO

Производитель: НТ-МДТ (Россия).
Назначение: определение размера структурных элементов поверхности наноматериалов и исследование их локальных магнитных, механических, электрических свойств.
Технические характеристики:
максимальный размер области сканирования – 100х100 мкм;
размер образца не более 40х40х10 мм;
разрешение по оси Z: 0,06 нм;
латеральное разрешение: 0,2 нм.
Реализованы различные методы измерений и воздействий: туннельная микроскопия, атомно-силовая микроскопия (контактная и полуконтактная), электросиловая микроскопия (статическая и динамическая), магнитносиловая микроскопия, режим измерения жесткости и латеральных сил поверхности, нанолитография, спектроскопия.
РД RIGAKU ULTIMA IV РЕНТГЕНОВСКИЙ ДИФРАКТОМЕТР RIGAKU ULTIMA IV

Производитель: Rigaku (Япония).
Назначение: качественный и количественный рентгенофазовый анализ поликристаллических материалов, включая тонкие пленки, прецизионные измерения параметров решетки, определение степени кристалличности, текстуры, размера кристаллитов и наночастиц, искажений кристаллической решетки и др.
Технические характеристики:
вертикальный гониометр;
диапазон углов сканирования 2θ от -3 до +162°;
минимальный шаг сканирования по углу 0.0001°;
геометрии Брэгг-Брентано, параллельный пучок;
приставка для анализа напряжений и полюсных фигур в тонких пленках и объемных образцах;
специализированная высокотемпературная камера для съемок рентгенограмм при нагреве образца.
ЛК CFHF РЗЦ ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС CFHF НА БАЗЕ РЕФРИЖЕРАТОРА ЗАМКНУТОГО ЦИКЛА

Производитель: Cryogenics Ltd (Англия)
Назначение: автоматизированные измерения электрических свойств на постоянном и переменном токе, магнитных свойств, а также термоэдс и теплопроводности различных материалов в широком диапазоне температур.
Технические характеристики:
диапазон температур: 1,6 - 300 К;
магнитные поля до 8 Тл;
область частот от 20 Гц до 30 МГц;
область частот колебаний образца: 1 - 100 Гц;
чувствительность по магнитному моменту 10-6 эме;
точность и воспроизводимость 0,5 %;
амплитуда переменного поля до 5 мT при 10 Гц.
ЛК ЛАЭМС ЛАЗЕРНЫЙ КОМПЛЕКС ЛАЭМС

Производитель: БГУ (Беларусь)
Назначение: для проведения фундаментальных и прикладных научных исследований в области лазерной атомно-эмиссионной спектроскопии, физики низкотемпературной эрозионной плазмы, изучения процессов взаимодействия импульсного лазерного излучения с абляционным парогазовым многокомпонентным облаком и поверхностью твердого тела.
Основные технические характеристики:
Источник возбуждения эмиссионных спектров - двухимпульсный лазер с полупроводниковой накачкой: длина волны излучения: 1064 нм, длительность импульса: не более 15 нс, максимальная частота следования импульсов не менее 10 Гц, энергия в импульсе: не менее 50 мДж;
спектральный диапазон: 190-800 нм;
спектральное разрешение: 0,1 нм;
диаметр лазерного пучка на поверхности образца: не более 70 мкм. 
Перемещение образца вдоль осей X-Y: 10 мм;
точность позиционирования образца: 100 мкм.
Количество определяемых химических элементов: 50.
Прицельный лазер для позиционирования места воздействия лазерных импульсов, светодиодная подсветка рабочего поля, видеокамера обзора рабочего поля.
ДМТМ SHIMADZU DUH-202 ДИНАМИЧЕСКИЙ МИКРОТВЕРДОМЕР SHIMADZU DUH-202

Производитель: Shimadzu Corporati (Япония).
Назначение: измерения динамической твердости и микротвердости тонких пленок и покрытий.
Технические характеристики:
инденторы Берковича и Виккерса;
точность нагружения – 1% от заданной нагрузки;
точность измерения глубины – 1 нм;
величина нагрузки от 0,1 мН до 1961 мН;
глубина индентирования до 10 мкм.
УИПТ-001 УСТАНОВКА УИПТ-001

Производитель: БГУ (Беларусь)
Назначение: исследование трибологических свойств поверхностей различных материалов путем получения и последующего сохранения на цифровом носителе зависимости коэффициента трения от пути трения.
Технические характеристики:
диапазон возможных размеров образца: минимальный размер образца – 6х4х1 мм;
максимальный размер образца – 20х35х8 мм;
тип индентора – сферический; радиус закругления индентора – от 0,75 мм до 3 мм;
нагрузка на индентор – от 0,01 Н до 0,2 Н;
скорость перемещения образца – от 0,04 мм/с до 4 мм/с;
длина трека износа – от 5 мм до 20 мм.
САК СКМ NANOFINDER СПЕКТРАЛЬНО-АНАЛИТИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС НА ОСНОВЕ СКАНИРУЮЩЕГО КОНФОКАЛЬНОГО МИКРОСКОПА NANOFINDER

Производитель: СП «ЛОТИС ТИИ» (Беларусь).
Назначение: рамановская спектроскопия и фотолюминесцентный анализ с пространственным разрешением 200 нм (500 нм по глубине прозрачного образца) и спектральным разрешением 0,01 нм при различных температурах: от 20 К до комнатной.
Технические характеристики:
4 лазера с автоматической коммутацией и длинами волн генерации 355, 473, 532, 785 нм; поляризатор – призма Глан-Тейлора;
анализатор – призма Глан-Тейлора с автоматическим управлением ввода-вывода в канал регистрации спектра.
диапазон сканирования по X-Y-Z – не менее 100×100×25 мкм, соответственно;
пространственное разрешение по X-Y не хуже 200 нм;
пространственное разрешение по Z не хуже 500 нм;
рабочий спектральный диапазон 330-1100 нм;
спектральное разрешение: до 0,1 нм для нарезной решетки и до 0,01 нм для Эшелле решетки; регулируемая щель: от 0 до 2 мм с шагом 0,5 мкм;
система регистрации рамановского и люминесцентного излучения;
фотоэлектронный умножитель: рабочий спектральный диапазон не менее 300–900 нм, время нарастания выходного сигнала не более 2,5 нс, время отклика не более 25 нс, световая чувствительность анода не менее 2500 А/лм.
Ф-С VERTEX 70 ФУРЬЕ- СПЕКТРОМЕТР VERTEX 70

Производитель: BRUKER (Германия).
Назначение: регистрация инфракрасных спектров различных веществ.
Технические характеристики:
Спектральный диапазон 400-5000 см-1;
спектральное разрешение лучше, чем 0.5 см-1 (с аподизацией);
фотометрическая точность лучше, чем 0,1 %.
СФМ PHOTON RT СПЕКТРОФОТОМЕТР PHOTON RT

Производитель: ЭссентОптикс (Беларусь).
Назначение: измерение спектральных характеристик отражения, пропускания и оптической плотности плоских оптических деталей и покрытий в поляризованном свете.
Технические характеристики:
спектральный диапазон: 190-3000 нм;
спектральное разрешение: 190-1000 нм (решетка 600 штр/мм) – 1,8 нм; 1000-3000 нм (решетка 300 штр/мм) –3,6 нм;
минимальный шаг сканирования: 0,5 нм;
воспроизводимость длины волны: 0,12 нм;
источник излучения: лампа галогенная 12 В, 20 Вт; лампа дейтериевая 35 Вт;
шаг перестройки угла поворота столика 0,1 град;
шаг перестройки угла поворота фотоприемника 0,1 град;
точность установки углов поворота столика образцов 0,05 град;
угол расходимости луча 2град.

СО2 инкубатор HERAcell 150 Thermo

ЛКТ - (CO2)И HERAcell 150 Thermo

Центрифуга лабораторная Multifuge 1L Thermo

ЛКТ - ЦЛ Multifuge 1L Thermo

Микроскоп Olympus BX51 с манипулятором Sutter МР-225

ЛКТ - М Olympus BX51 (мпр Sutter МР-225)

Комплекс для микроэлектродных исследований клеток

КМЭИК
ЛАБОРАТОРИЯ КЛЕТОЧНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ В СОСТАВЕ:
СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO;
центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO;
микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225;
комплекс для микроэлектродных исследований клеток

Производитель: СО2 инкубатор, центрифуга лабораторная – THERMO (Германия); микроскоп – OLYMPUS (Япония), комплекс для микроэлектродных исследований клеток – HEKA (Германия)
Назначение: ведение культур клеточных линий, исследование клеток методом patch-clamp
Технические характеристики:
СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO:
степень очистки воздуха: не хуже 99,99% (0,3 мкм);
инкубация: t= 5-50 C, CO2= 0-20 %, O2= 3-90 %, Hum= 60-95 % rH.
Центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO:
взвешивание: 0-1 кг, точность 0,1 мкг; скорость центрифугирования: 15000 оборотов.
Микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225:
методы наблюдения – светлое поле, темное поле, поляризованный свет, флуоресценция; манипулирование не хуже 2 мкм.
Комплекс для микроэлектродных исследований клеток:
фиксация тока не хуже 10 мкА;
фиксация потенциала: не хуже 1 мВ;
внутриклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-1 В, шум: <5 мкВ;
внеклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-10 мВ, шум: <5 мкВ.
Н-У ЛК П НОФСИ НАУЧНО-УЧЕБНЫЙ ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС ПО НЕЛИНЕЙНОЙ ОПТИКЕ ФЕМТОСЕКУНДНЫХ ИМПУЛЬСОВ

Производитель: БГУ, БНТУ (Беларусь)
Назначение: для проведения фундаментальных и прикладных научных исследований и обучения студентов основам лазерной физики, нелинейной оптики сверхкоротких импульсов, а также лазерным технологиям.
Основные технические характеристики:
Рабочие длины волн: 520, 1040 нм.
Длительность лазерных импульсов (на длине волны 1040 нм): не более 90 фс.
Энергия импульсов (на длине волны 1040 нм): не менее 28 нДж.
Средняя выходная мощность (на длине волны 1040 нм): не менее 2 Вт.
Частота следования импульсов в генераторе фемтосекундных лазерных импульсов: 70±1 МГц.
Уменьшенная частота следования импульсов: 7±0,1 кГц.
Диапазон измерения длительности импульса: 10-1000 фс.
Ширина выходного спектра генератора суперконтинуума: не менее 40 нм.
Н-У ЛЛК П ОММО НАУЧНО-УЧЕБНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС ПО ОПТИЧЕСКОМУ МАНИПУЛИРОВАНИЮ МИКРООБЪЕКТАМИ

Производитель: БГУ (Беларусь)
Назначение: для изучения принципа работы оптического пинцета, осуществления захвата и адресной доставки микрообъектов с использованием гауссовых и сингулярных световых пучков, исследования влияния фазово-поляризационной структуры лазерного излучения на силу оптического захвата.
Основные технические характеристики:
длина волны излучения управляющего лазера: 0,53 мкм;
мощность управляющего излучения: не более 0,3 Вт;
тип световых пучков: гауссовы, сингулярные;
размер управляемых объектов: не более 10 мкм;
рабочая область: не менее 125×125 мкм.
АВУ ИПН НКП ТП HHV Auto 500 АВТОМАТИЗИРОВАННАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ НАНОКОМПОЗИТНЫХ ПОКРЫТИЙ И ТОНКИХ ПЛЕНОК HHV Auto 500

Производитель: Hind High Vacuum Company Private Limited (Индия)
Назначение: ионно-плазменное нанесение нанокомпозитных покрытий и тонких пленок
Технические характеристики:
вакуумная технологическая камера: диаметр 50 см, высота 60 см, камера из нержавеющей стали (электрополировка внутренней поверхности);
система сухой (безмасляной) вакуумной откачки, обеспечивающая степень вакуума в технологической камере 5х10-7 Торр;
магнетронный источник с RF блоком питания (диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение, источник питания 600 Вт, 13.56 МГц, цифровая система управления);
магнетронный источник с DC блоком питания (мощность 1.5 кВт, диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение);
система напуска технологических газов: аргон, азот;
регулировка с помощью цифровых регуляторов расхода;
два резистивных испарителя;
вращающийся подложкодержатель.
У ИУПО PECS 682 УСТАНОВКА ИОННОГО УТОНЕНИЯ, ПОЛИРОВКИ, ОЧИСТКИ PECS 682

Производитель: Gatan (США).
Назначение: препарирование образцов для растровой и просвечивающей электронной микроскопии.
Технические характеристики:
энергия ионов от 1 до 10 кэВ;
плотность тока до 10 мА/см2;
диаметр ионного пучка до 5 мм;
скорость утонения для W 3 мкм/ч;
угол наклона образца 0-90 град.

Шлифовально-полировальный станок TegraPol-25

КОПП - ШПС TegraPol-25

Отрезной станок Minitom

КОПП - ОС Minitom

Установка для электролитического утонения TenuPol-5

КОПП - УЭУ TenuPol-5
КОМПЛЕКС ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ПРОБОПОДГОТОВКИ В СОСТАВЕ:
шлифовально-полировальный станок TEGRAPOL-25;
отрезной станок MINITOM;
установка для электролитического утонения TENUPOL-5.

Производитель: Struers A/S (Дания).
Назначение: резка, шлифовка, полировка, электролитическое утонение образцов.
Технические характеристики:
скорость вращения полировального диска 40-600 об/мин,
давление 10-400 Н;
скорость отрезания 110-420 об/мин;
точность 0,01 мм;
одно- и двухстороннее утонение образцов;
диаметр образца 3 мм.