Оборудование
|
РАСТРОВЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ МИКРОСКОП LEO - 1455 VP С ПРИСТАВКАМИ
:
энергодисперсионный безазотный спектрометр Aztec Energy Advanced X-Max 80 ; система дифракции отраженных электронов HKL EBSD Premium System Channel 5 Производитель: микроскопа - Сarl Zeiss (Германия), спектрометра и системы дифракции отраженных электронов - Oxford Instruments (Англия). Назначение: исследование морфологии поверхности проводящих и непроводящих материалов; определение качественного и количественного элементного состава материалов как по всей поверхности, так и в точке или вдоль выделенной линии, построение карт элементного состава; получение изображения поверхности материала в фазовом контрасте; определение фазового состава, ориентации кристаллитов, состояния границ зерен. Технические характеристики: увеличение от 32 до 300 000 крат; разрешение в высоковакуумном режиме для проводящих образцов 3,5 нм, в низковакуумном режиме для непроводящих образцов – 5 нм; максимальный размер образца 100 мм; диапазон элементов от Bе до Pu; пределы измеряемых концентраций 0,1-100%; время получения одной картины Кикучи не более 1 с; анализируемый диапазон симметрии кристаллов - все группы Лауэ. |
|
СКАНИРУЮЩИЙ ЗОНДОВЫЙ МИКРОСКОП NEXT II
Производитель: НТ-МДТ (Россия). Назначение: для трёхмерных измерений линейных размеров элементов структуры микро- и нанорельефа с высоким пространственным разрешением, определения основных параметров шероховатости поверхности конденсированных сред, визуализации доменной структуры магнитных материалов, изучения локальных механических (трение, жесткость, модуль упругости) и электрических (поверхностный потенциал, плотность состояний, диэлектрическая проницаемость, ВАХ) свойств поверхности наноматериалов Технические характеристики: максимальный размер области сканирования по направлениям X, Y, Z – 100х100х10 мкм соответственно; шум X, Y, Z емкостных датчиков перемещения пьезосканера не более 0,3 нм; скорость снятия силовых кривых: 1000 силовых кривых за 1 секунду с 1000 оцифрованных точек на каждую кривую в процессе сканирования по растру 512x512 точек со строчной скоростью 1 Гц. Реализованы следующие методики: контактная атомно-силовая микроскопия (АСМ): рельеф, латеральные силы, силовая модуляция, ток растекания, силовая микроскопия пьезоотклика, контактная резонансная микроскопия; амплитудно-модуляционная АСМ: рельеф, отображение фазы, одно- и двухпроходная Кельвин-зондовая силовая микроскопия с фазовой и амплитудной модуляцией, двухпроходная и покадровая магнитно-силовая микроскопия, одно- и двухпроходная электростатическая силовая микроскопия, сканирующая емкостная силовая микроскопия (отображение dC/dZ и dC/dV); АСМ нанолитография: вольтовая, токовая, силовая и емкостная (векторные и растровые); прыжковая АСМ: рельеф, количественное картирование модуля Юнга в диапазоне не уже, чем от 104 до 5*1010 Па, и работы адгезии, объемная силовая спектроскопия, токовые измерения, пьезоотклик, Кельвин-зондовая силовая микроскопия, магнитно-силовая микроскопия, электростатическая силовая микроскопия; сканирующая туннельная микроскопия (СТМ): постоянного тока, постоянной высоты, отображение работы выхода, отображение плотности состояний; сканирующая туннельная спектроскопия: ток от расстояния (I(Z)), ток от напряжения (I(V)). |
|
РЕНТГЕНОВСКИЙ ДИФРАКТОМЕТР RIGAKU ULTIMA IV
Производитель: Rigaku (Япония). Назначение: качественный и количественный рентгенофазовый анализ поликристаллических материалов, включая тонкие пленки, прецизионные измерения параметров решетки, определение степени кристалличности, текстуры, размера кристаллитов и наночастиц, искажений кристаллической решетки и др. Технические характеристики: вертикальный гониометр; диапазон углов сканирования 2θ от -3 до +162°; минимальный шаг сканирования по углу 0.0001°; геометрии Брэгг-Брентано, параллельный пучок; приставка для анализа напряжений и полюсных фигур в тонких пленках и объемных образцах; специализированная высокотемпературная камера для съемок рентгенограмм при нагреве образца. |
.png)
|
ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС CFHF НА БАЗЕ РЕФРИЖЕРАТОРА ЗАМКНУТОГО ЦИКЛА
Производитель: Cryogenics Ltd (Англия) Назначение: автоматизированные измерения электрических свойств на постоянном и переменном токе, магнитных свойств, а также термоэдс и теплопроводности различных материалов в широком диапазоне температур. Технические характеристики: диапазон температур: 1,6 - 300 К; магнитные поля до 8 Тл; область частот от 20 Гц до 30 МГц; область частот колебаний образца: 1 - 100 Гц; чувствительность по магнитному моменту 10-6 эме; точность и воспроизводимость 0,5 %; амплитуда переменного поля до 5 мT при 10 Гц. |
|
ЛАЗЕРНЫЙ КОМПЛЕКС ЛАЭМС
Производитель: БГУ (Беларусь) Назначение: для проведения фундаментальных и прикладных научных исследований в области лазерной атомно-эмиссионной спектроскопии, физики низкотемпературной эрозионной плазмы, изучения процессов взаимодействия импульсного лазерного излучения с абляционным парогазовым многокомпонентным облаком и поверхностью твердого тела. Основные технические характеристики: Источник возбуждения эмиссионных спектров - двухимпульсный лазер с полупроводниковой накачкой: длина волны излучения: 1064 нм, длительность импульса: не более 15 нс, максимальная частота следования импульсов не менее 10 Гц, энергия в импульсе: не менее 50 мДж; спектральный диапазон: 190-800 нм; спектральное разрешение: 0,1 нм; диаметр лазерного пучка на поверхности образца: не более 70 мкм. Перемещение образца вдоль осей X-Y: 10 мм; точность позиционирования образца: 100 мкм. Количество определяемых химических элементов: 50. Прицельный лазер для позиционирования места воздействия лазерных импульсов, светодиодная подсветка рабочего поля, видеокамера обзора рабочего поля. |
|
СПЕКТРОФЛУОРИМЕТР СМ 2203
Производитель: ЗАО «Спектроскопия, оптика и лазеры – авангардные разработки» (Беларусь). Назначение: для измерения спектров флуоресценции и фосфоресценции (возбуждения, испускания, синхронных, поляризации, температурных), хемилюминесценции, а также спектров поглощения (пропускания) жидких и твёрдых образцов в ультрафиолетовой и видимой областях спектра. Технические характеристики: Чувствительность: отношение сигнал/шум - не менее 160 для рамановского спектра воды (при выделяемой спектральной полосе пропускания монохроматоров 5 нм, длине волны возбуждения - 350 нм, длине волны регистрации - 397 нм, времени усреднения сигнала 2 с, времени регистрации - 5 мин); Монохроматоры возбуждения и регистрации двойные со сложением дисперсии, с автоматически перестраиваемыми светофильтрами, отрезающими высшие порядки спектра; Выделяемый спектральный интервал произвольный: от 0 до 20 нм с дискретностью 0,1 нм; Прибор автоматически поддерживает постоянный выделяемый спектральный интервал при сканировании; Точность установки длины волны: + - 0,4 нм; Воспроизводимость установки длины волны: + - 0.2 нм; Спектральный диапазон в режиме спектрофлуориметра: от 220 до 820 нм; Кюветный держатель однопозиционный, термостатируемый от 10 до 60°C с дискретностью 0,1°С); Минимальный объём образца 1 мл в стандартной 10 мм кювете. Спектральный диапазон в режиме спектрофотометра: от 220 до 1100 нм; Фотометрический диапазон: от -0.3 до 3 Б; Точность фотометрирования не более 1% (в зависимости от величины поглощения). |
|
СПЕКТРАЛЬНО-АНАЛИТИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС НА ОСНОВЕ СКАНИРУЮЩЕГО КОНФОКАЛЬНОГО МИКРОСКОПА NANOFINDER
Производитель: СП «ЛОТИС ТИИ» (Беларусь). Назначение: рамановская спектроскопия и фотолюминесцентный анализ с пространственным разрешением 200 нм (500 нм по глубине прозрачного образца) и спектральным разрешением 0,01 нм при различных температурах: от 20 К до комнатной. Технические характеристики: 4 лазера с автоматической коммутацией и длинами волн генерации 355, 473, 532, 785 нм; поляризатор – призма Глан-Тейлора; анализатор – призма Глан-Тейлора с автоматическим управлением ввода-вывода в канал регистрации спектра. диапазон сканирования по X-Y-Z – не менее 100×100×25 мкм, соответственно; пространственное разрешение по X-Y не хуже 200 нм; пространственное разрешение по Z не хуже 500 нм; рабочий спектральный диапазон 330-1100 нм; спектральное разрешение: до 0,1 нм для нарезной решетки и до 0,01 нм для Эшелле решетки; регулируемая щель: от 0 до 2 мм с шагом 0,5 мкм; система регистрации рамановского и люминесцентного излучения; фотоэлектронный умножитель: рабочий спектральный диапазон не менее 300–900 нм, время нарастания выходного сигнала не более 2,5 нс, время отклика не более 25 нс, световая чувствительность анода не менее 2500 А/лм. |
|
ФУРЬЕ- СПЕКТРОМЕТР VERTEX 70
Производитель: BRUKER (Германия). Назначение: регистрация инфракрасных спектров различных веществ. Технические характеристики: Спектральный диапазон 400-5000 см-1; спектральное разрешение лучше, чем 0.5 см-1 (с аподизацией); фотометрическая точность лучше, чем 0,1 %. |
|
СПЕКТРОФОТОМЕТР PHOTON RT
Производитель: ЭссентОптикс (Беларусь). Назначение: измерение спектральных характеристик отражения, пропускания и оптической плотности плоских оптических деталей и покрытий в поляризованном свете. Технические характеристики: спектральный диапазон: 190-3000 нм; спектральное разрешение: 190-1000 нм (решетка 600 штр/мм) – 1,8 нм; 1000-3000 нм (решетка 300 штр/мм) –3,6 нм; минимальный шаг сканирования: 0,5 нм; воспроизводимость длины волны: 0,12 нм; источник излучения: лампа галогенная 12 В, 20 Вт; лампа дейтериевая 35 Вт; шаг перестройки угла поворота столика 0,1 град; шаг перестройки угла поворота фотоприемника 0,1 град; точность установки углов поворота столика образцов 0,05 град; угол расходимости луча 2град. |
|
СО2 инкубатор HERAcell 150 Thermo
Центрифуга лабораторная Multifuge 1L Thermo
Микроскоп Olympus BX51 с манипулятором Sutter МР-225
Комплекс для микроэлектродных исследований клеток
|
ЛАБОРАТОРИЯ КЛЕТОЧНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ В СОСТАВЕ:
СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO; центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO; микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225; комплекс для микроэлектродных исследований клеток Производитель: СО2 инкубатор, центрифуга лабораторная – THERMO (Германия); микроскоп – OLYMPUS (Япония), комплекс для микроэлектродных исследований клеток – HEKA (Германия) Назначение: ведение культур клеточных линий, исследование клеток методом patch-clamp Технические характеристики: СО2 инкубатор HERACELL 150 THERMO: степень очистки воздуха: не хуже 99,99% (0,3 мкм); инкубация: t= 5-50 C, CO2= 0-20 %, O2= 3-90 %, Hum= 60-95 % rH. Центрифуга лабораторная MULTIFUGE 1L THERMO: взвешивание: 0-1 кг, точность 0,1 мкг; скорость центрифугирования: 15000 оборотов. Микроскоп OLYMPUS BX51 с манипулятором SUTTER МР-225: методы наблюдения – светлое поле, темное поле, поляризованный свет, флуоресценция; манипулирование не хуже 2 мкм. Комплекс для микроэлектродных исследований клеток: фиксация тока не хуже 10 мкА; фиксация потенциала: не хуже 1 мВ; внутриклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-1 В, шум: <5 мкВ; внеклеточный потенциал: 0-10 кГц, 0-10 мВ, шум: <5 мкВ. |
|
НАУЧНО-УЧЕБНЫЙ ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС ПО НЕЛИНЕЙНОЙ ОПТИКЕ ФЕМТОСЕКУНДНЫХ ИМПУЛЬСОВ
Производитель: БГУ, БНТУ (Беларусь) Назначение: для проведения фундаментальных и прикладных научных исследований и обучения студентов основам лазерной физики, нелинейной оптики сверхкоротких импульсов, а также лазерным технологиям. Основные технические характеристики: Рабочие длины волн: 520, 1040 нм. Длительность лазерных импульсов (на длине волны 1040 нм): не более 90 фс. Энергия импульсов (на длине волны 1040 нм): не менее 28 нДж. Средняя выходная мощность (на длине волны 1040 нм): не менее 2 Вт. Частота следования импульсов в генераторе фемтосекундных лазерных импульсов: 70±1 МГц. Уменьшенная частота следования импульсов: 7±0,1 кГц. Диапазон измерения длительности импульса: 10-1000 фс. Ширина выходного спектра генератора суперконтинуума: не менее 40 нм. |
|
НАУЧНО-УЧЕБНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ЛАБОРАТОРНЫЙ КОМПЛЕКС ПО ОПТИЧЕСКОМУ МАНИПУЛИРОВАНИЮ МИКРООБЪЕКТАМИ
Производитель: БГУ (Беларусь) Назначение: для изучения принципа работы оптического пинцета, осуществления захвата и адресной доставки микрообъектов с использованием гауссовых и сингулярных световых пучков, исследования влияния фазово-поляризационной структуры лазерного излучения на силу оптического захвата. Основные технические характеристики: длина волны излучения управляющего лазера: 0,53 мкм; мощность управляющего излучения: не более 0,3 Вт; тип световых пучков: гауссовы, сингулярные; размер управляемых объектов: не более 10 мкм; рабочая область: не менее 125×125 мкм. |
|
АВТОМАТИЗИРОВАННАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ НАНОКОМПОЗИТНЫХ ПОКРЫТИЙ И ТОНКИХ ПЛЕНОК HHV Auto 500
Производитель: Hind High Vacuum Company Private Limited (Индия) Назначение: ионно-плазменное нанесение нанокомпозитных покрытий и тонких пленок Технические характеристики: вакуумная технологическая камера: диаметр 50 см, высота 60 см, камера из нержавеющей стали (электрополировка внутренней поверхности); система сухой (безмасляной) вакуумной откачки, обеспечивающая степень вакуума в технологической камере 5х10-7 Торр; магнетронный источник с RF блоком питания (диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение, источник питания 600 Вт, 13.56 МГц, цифровая система управления); магнетронный источник с DC блоком питания (мощность 1.5 кВт, диаметр мишени 75 мм, водяное охлаждение); система напуска технологических газов: аргон, азот; регулировка с помощью цифровых регуляторов расхода; два резистивных испарителя; вращающийся подложкодержатель. |
|
УСТАНОВКА ИОННОГО УТОНЕНИЯ, ПОЛИРОВКИ, ОЧИСТКИ PECS 682
Производитель: Gatan (США). Назначение: препарирование образцов для растровой и просвечивающей электронной микроскопии. Технические характеристики: энергия ионов от 1 до 10 кэВ; плотность тока до 10 мА/см2; диаметр ионного пучка до 5 мм; скорость утонения для W 3 мкм/ч; угол наклона образца 0-90 град. |
|
Шлифовально-полировальный станок TegraPol-25
Отрезной станок Minitom
Установка для электролитического утонения TenuPol-5
|
КОМПЛЕКС ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ПРОБОПОДГОТОВКИ В СОСТАВЕ:
шлифовально-полировальный станок TEGRAPOL-25; отрезной станок MINITOM; установка для электролитического утонения TENUPOL-5. Производитель: Struers A/S (Дания). Назначение: резка, шлифовка, полировка, электролитическое утонение образцов. Технические характеристики: скорость вращения полировального диска 40-600 об/мин, давление 10-400 Н; скорость отрезания 110-420 об/мин; точность 0,01 мм; одно- и двухстороннее утонение образцов; диаметр образца 3 мм. |
